昇降式基板処理装置及びこれを備えた基板処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：村上智司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052572
公開番号（公開出願番号）：特開2002-261143
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：

【要約】【課題】処理ラインの一方から他方に基板を搬送する機能を有し、且つ搬送中に基板を処理することができる基板処理装置及び基板処理システムを提供する。【解決手段】上下に並設された基板投入口11a及び基板排出口11bを備えた筐体状のカバー体11と、カバー体11内に内装された処理機構20であって、基板投入口11aから搬入された基板を受容して支持する一方、基板排出口11bから基板を排出する搬送・支持手段、搬送・支持手段を支持する支持架台21、搬送・支持手段の上方に配設され、基板上に処理流体を吐出する処理流体出手段を備えた処理機構20と、処理機構20を支持して上下方向に昇降させ、処理機構20を基板投入口11a及び基板排出口11bに経由せしめる昇降機構40とを設けて構成する。

請求項（抜粋）：

上下に並設された基板投入口及び基板排出口を備えてなる筐体状のカバー体と、前記カバー体内に内装された処理機構であって、前記基板投入口から搬入された基板を受容して支持する一方、前記基板排出口から前記基板を排出する搬送・支持手段、該搬送・支持手段を支持する支持架台、並びに該搬送・支持手段の上方に配設され、該搬送・支持手段によって支持された基板上に処理流体を吐出する処理流体吐出手段を備えてなる処理機構と、前記処理機構を支持して上下方向に昇降させ、該処理機構を前記基板投入口及び基板排出口に経由せしめる昇降機構とを設けて構成したことを特徴とする昇降式基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304

FI (5件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/304 643 B , H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 648 K , H01L 21/30 569 D

Fターム (20件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA03 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA49 , 5F031GA53 , 5F031LA13 , 5F031MA02 , 5F031MA06 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031NA09 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046LA11

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