特許
J-GLOBAL ID:200903050847242771

基板検査装置および基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-074116
公開番号(公開出願番号):特開2000-268767
出願日: 1999年03月18日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】 一次ビームの試料上の照射領域を制限することなく、二次ビームの倍率色収差を抑えることができる、基板検査装置および基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法を提供する。【解決手段】 焦点F1を含む焦点面9に配設された開き角絞り25とウィーンフィルタ41との間に、一次ビーム5を開き角絞り25の上面で走査させる偏向器61および偏向制御部63と、開き角絞り25の表面から発生する二次電子および反射電子を検出して第2の画像信号を出力する二次電子検出器62と、第2の画像信号に基づいて第2の電子画像を表示する表示部60とを備え、開き角絞り25の電子画像の中心が表示部60の表示画像の中心に一致するように、複数段4極子レンズ15と偏向器61,69とを調整する。
請求項(抜粋):
発生された電子ビームを集束して試料である基板に一次ビームとして入射させるビーム集束手段を有する電子ビーム照射手段と、前記一次ビームの照射を受けて前記基板から発生した第1の二次電子および反射電子を二次ビームとして検出し、第1の画像信号を出力する電子ビーム検出手段と、前記第1の画像信号に基づいて前記第1の二次電子および反射電子により形成され前記基板の表面の物理的・電気的状態を表す画像である第1の電子画像を表示する第1の表示手段と、前記一次ビームを偏向して前記基板の表面に略垂直に入射させる電子ビーム偏向手段を含み、前記二次ビームを拡大投影して前記電子ビーム検出手段に結像させる写像投影手段と、前記電子ビーム偏向手段が配設された位置を含み、前記電子ビーム偏向手段と前記基板との間で前記二次ビームのビーム軸に垂直な平面に配設され、前記二次ビームの開き角を決定する開き角絞りと、前記電子ビーム照射手段と前記開き角絞りとの間に配設され、前記一次ビームを偏向するとともに前記開き角絞りの上面で走査させる電子ビーム偏向走査手段と、前記一次ビームの照射により前記開き角絞りの表面から発生する第2の二次電子および反射電子を検出して第2の画像信号を出力する二次電子検出手段と、前記第2の画像信号に基づいて前記第2の二次電子および反射電子により形成され前記開き角絞りの状態を表す画像である第2の電子画像を表示する第2の表示手段と、前記第2の電子画像に基づいて、前記ビーム集束手段および前記電子ビーム偏向走査手段を調整して前記一次ビームの焦点距離と方向と照射面の大きさとを変更する一次ビーム調整手段と、を備えた基板検査装置。
IPC (4件):
H01J 37/29 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/153
FI (4件):
H01J 37/29 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/04 Z ,  H01J 37/153 Z
Fターム (24件):
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001DA09 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA16 ,  2G001JA20 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001SA10 ,  5C030AA07 ,  5C030AA08 ,  5C030AB03 ,  5C030BC06 ,  5C033BB01 ,  5C033JJ03 ,  5C033JJ05 ,  5C033JJ07

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