特許
J-GLOBAL ID：200903050849208236
露光装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-078552
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260712
出願日： 1998年03月12日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 結象特性補正機構からの発熱が投影光学系の結像特性等に影響することを防止。【解決手段】 駆動素子制御部53は、主制御装置MCとの間で信号を受け渡して現在露光処理中か否かを判断する。露光処理中と判断された場合、駆動素子制御部53は、主制御装置MCから受け取った演算パラメータに基づいてレンズエレメント21等の目標位置を算出し、駆動素子25、27、29をサーボ駆動してレンズエレメント20等をこの目標位置に変位させる。非露光処理中と判断された場合、駆動素子制御部53は、主制御装置MCから受け取った演算パラメータに基づいてレンズエレメント21等の基準位置を算出し、駆動素子25、27、29のサーボ駆動を停止してレンズエレメント等をこの基準位置にロックする。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をマスクパターンに照射する照明光学系と、前記マスクパターンの像を感光基板に結像投影する結像光学系と、当該結像光学系を構成する所定の光学要素を変位させて結像特性を補正する補正装置とを備える露光装置であって、露光処理中は、前記補正装置をサーボ駆動して前記所定の光学要素を所定の目標位置に変位させ、非露光処理中は、前記補正装置のサーボ駆動を停止させる制御装置を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 515 D
, G03F 9/00 A
, H01L 21/30 516 B
, H01L 21/30 525 X
