特許

J-GLOBAL ID：200903050856542265

天然ガス処理システム

発明者： 中村 和夫 ,  山田 研治
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-091566
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279277
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】 BOGを有効に処理することによって、天然ガスを効率よく貯蔵して供給するシステムを提供する。【解決手段】 LNGタンクからのBOGを常圧でハイドレート化される温度以上にすることなく供給する導入手段11と、BOGに冷水を噴射する水噴射手段14と、BOGが常圧でハイドレート化される温度未満でBOGに冷水が噴射されて生成されるガスハイドレート16を堆積する貯留手段13と、生成されたガスハイドレートを常圧で保持する貯蔵手段13と、ガスハイドレート16が-1〜-4°Cで保持されるように貯蔵手段13を冷却する冷却容器17と、ガスハイドレート16を天然ガスと水とに分解するために貯蔵手段13に保持されたガスハイドレートを加熱する加熱器18と、分解されたメタンを取出すガス供給手段20と、分解された水を取出す給水手段21とを備える。

請求項（抜粋）：

液化天然ガスが貯蔵された貯蔵設備において発生するボイルオフガスを、該ボイルオフガスが0.09〜0.11MPaの常圧でハイドレート化される温度以上に上げることなく供給する導入手段と、導入手段からのボイルオフガスに、冷水を噴射する水噴射手段と、導入手段からのボイルオフガスを、前記温度未満で、かつ、0.09〜0.11MPaの常圧で保持し、ボイルオフガスに冷水が噴射されることによって生成されるメタンハイドレートを含むガスハイドレートを堆積する貯留手段とを含むことを特徴とする天然ガス処理システム。

IPC (9件)：

C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C10L 3/10 ,  F17C 11/00 ,  F17C 13/00 302 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (9件)：

C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  F17C 11/00 Z ,  F17C 13/00 302 A ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A ,  C10L 3/00 B

Fターム (7件)：

3E072EA10 ,  3E073DB01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC93 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11