特許
J-GLOBAL ID：200903050868609500
レジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-324337
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179517
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 簡略化された装置及び工程で異なったパターンの膜画像を重ねた厚膜ポジティブフォトレジスト膜画像を形成することが可能で、複雑な構造を持ったインクジェット記録ヘッドを低コストで得られるレジストパターンの形成方法を提供する。【構成】 ハードニングしたノボラック系ポジティブフォトレジスト膜画像上にノボラック系ポジティブフォトレジスト膜画像を形成することを特徴とするレジストの形成方法。
請求項（抜粋）：
ハードニングしたノボラック系ポジティブフォトレジスト膜画像上に、ノボラック系ポジティブフォトレジスト膜画像を形成することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/26 511
, B41J 2/16
, G03F 7/004 512
