特許

J-GLOBAL ID：200903050869892672

露光装置と拡散反射板及び反射型表示装置

発明者： 藤岡 隆之 ,  片岡 秀雄 ,  重野 信行 ,  川野 清子
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011066
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208410
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】 露光装置のショット方式を改善することで、大型基板上でのつなぎ目を除くことを目的とする。【解決手段】露光装置は、周期的なパタンが描画されたマスク101を介して所定のエネルギー量で露光を行ない、基板2の上に形成された感光層の一領域に周期的なパタン106を転写する処理を一ショットとし、領域を移動しながらショットを繰り返して基板2の全面にパタン106を転写する。一ショット分のエネルギー量を分割して複数回のショットに分散させ、且つパタン106の周期の整数倍分だけ領域をずらしながら複数回のショットを実行する。二次元的な周期を有するパタン106を転写するため、矩形の基板2の対角方向に領域をずらしながら複数回のショットを実行する。

請求項（抜粋）：

周期的なパタンが描画されたマスクを介して所定のエネルギー量で露光を行ない、基板の上に形成された感光層の一領域に該周期的なパタンを転写する処理を一ショットとし、領域を移動しながら該ショットを繰り返して基板の全面に該パタンを転写する露光装置であって、一ショット分のエネルギー量を分割して複数回のショットに分散させ、且つ該パタンの周期の整数倍分だけ領域をずらしながら該複数回のショットを実行することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

H01L 21/30 514 A ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/22 Z ,  H01L 21/30 514 B

Fターム (23件)：

2H091FA08X ,  2H091FA11X ,  2H091FA16Z ,  2H091FB08 ,  2H091FC10 ,  2H091FD10 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091LA18 ,  2H097AA11 ,  2H097BB01 ,  2H097BB10 ,  2H097CA12 ,  2H097GB01 ,  2H097LA11 ,  2H097LA20 ,  5F046AA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC04 ,  5F046CC14 ,  5F046DA02