特許
J-GLOBAL ID:200903050880958936

多孔質セラミックス膜、これを用いたガス分離膜、及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 勝成 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-050191
公開番号(公開出願番号):特開平6-239674
出願日: 1993年02月16日
公開日(公表日): 1994年08月30日
要約:
【要約】【目的】 圧力損失が小さく且つ目詰まりが少ないガス分離膜として有用な多孔質セラミックス膜、及びかかる多孔質セラミックス膜を短時間で簡単且つ容易に製造する方法を提供する。【構成】 Si等のアルコキシド、B等のアルコキシド、酸素ガスを原料ガスとするCVD法により、多孔質セラミックス焼結体からなる基材上に400〜1200°Cの温度でSiO2-B2O3等の複合酸化物膜を形成し、この複合酸化物膜を耐酸性又は耐アルカリ性の差を利用してエッチング処理することによりB2O3等の特定酸化物のみを除去する方法により製造され、B2O3等の特定酸化物の除去された跡に形成された細孔が基材との接合面から他方の膜表面までほぼ直線状に連通したナノメーターサイズの孔径を有し、本質的にSi、Zr、Ti、Hf、Pb又はAlの酸化物からなる多孔質セラミックス膜。
請求項(抜粋):
連通気孔を有する多孔質セラミックス焼結体からなる基材上に接合され、本質的にSi、Zr、Ti、Hf、Pb及びAlからなる群から選ばれた少なくとも1種の元素の酸化物からなり、前記基材との接合面から他方の膜表面までほぼ直線状に連通したナノメーターサイズの孔径の細孔を有することを特徴とする多孔質セラミックス膜。
IPC (5件):
C04B 38/00 303 ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 41/87 ,  C04B 41/91 ,  C23C 16/40
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • ポンプ吸込槽
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-117080   出願人:株式会社クボタ

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