特許

J-GLOBAL ID：200903050889375437

ポジ型レジスト組成物

発明者： 山中 司 ,  藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-291445
公開番号（公開出願番号）：特開2004-126302
出願日： 2002年10月03日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】感度及びプロファイルが良好であるとともに、レジスト液保存の経時において感度変動が少ないポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(B)特定のフェナシルスルホニウム化合物、及び、(C)特定のメルドラム酸化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、 (B)一般式(I)で表される化合物、及び、 (C)一般式(II)で表される化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17