特許

J-GLOBAL ID：200903050895353496

露光方法、照明装置、及び露光装置

発明者： 西 健爾 ,  谷津 修 ,  中村 協司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000001642
公開番号（公開出願番号）：WO2000-070660
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2000年11月23日
要約：

【要約】可干渉性の高い露光ビームを使用する場合でも、照明光学系をあまり複雑化及び大型化することなく、また露光時間を長くすることなく、転写対象のパターン上に形成されるスペックルパターン(干渉縞)を低減できる露光方法である。露光光源(9)からの露光ビームとしてのレーザビーム(LB)を、変形照明機構(19)及び集光レンズ(21)等を介してリング状の遅延光学系(22)に導き、遅延光学系(22)内を開き角に応じて内面反射によって互いに異なる回数だけ通過した複数の光束を重ね合わせてレーザビーム(LB3)として取り出す。レーザビーム(LB3)がフライアイレンズ(25)、コンデンサレンズ(7)等を介してレチクル(R)を照明する。

請求項（抜粋）：

露光ビームで第1物体を照明し、該第1物体のパターンを第2物体上に転写する露光方法において、 その露光ビームを所定の開き角分布を有する光束に調整し、該調整された光束を実質的に閉じたループ状の光路に通し、該ループ状の光路をそれぞれ開き角に応じて互いに異なる回数だけ通過した複数の光束を重ね合わせて前記第1物体に導くようにしたことを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 ,  H01L 21/30 527