特許

J-GLOBAL ID：200903050901238572

レーザビームによる蒸着方法およびレーザビーム蒸着装置

発明者： 井上 鉄也 ,  北側 彰一 ,  鈴木 基光
出願人/特許権者： 日立造船株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204153
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049629
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：

【要約】【構成】 真空チャンバー2内に回転自在に配置された回転台6上に蒸着すべき原料からなるターゲットBを配置し、このターゲットBをレーザビームにより加熱して原料成分を蒸発させ、真空チャンバー2内に保持された基板A表面に付着堆積させる際に、回転台6の回転速度を高速にするようにしたレーザビームによる蒸着方法である。【効果】 ターゲットを高速でもって回転させるようにしているので、レーザビームによりターゲットが瞬時に加熱されるとともに加熱される部分が局所的となるため、ターゲット上の加熱部分の温度が均一となり、したがって基板に蒸着される原料成分の組成比を、ターゲット自身の組成比に近付けることができる。

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内に回転自在に配置された回転台上に蒸着すべき原料からなるターゲットを配置し、このターゲットをレーザビームにより加熱して原料成分を蒸発させ、真空チャンバー内に保持された基板表面に付着堆積させる際に、上記回転台の回転速度を高速にすることを特徴とするレーザビームによる蒸着方法。