特許
J-GLOBAL ID：200903050905163399
基板洗浄方法および基板洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-131501
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335607
出願日： 1994年06月14日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】 極小量の洗浄薬品と極少量の超純水とを用いて基板表面の高清浄度化を可能にする。【構成】 密閉容器1内に基板保持具2により半導体基板18を保持し、液状の洗浄薬品を貯蔵する薬品貯蔵容器4を加熱手段5で加熱して密閉容器1内に薬品蒸気を供給する。洗浄薬品の蒸気を用いることにより、小量の洗浄薬品ですむとともに、蒸留作用により半導体基板18に到達する洗浄薬品は不純物が少なく高純度化される。さらに、超純水滴下手段8により極微量の超純水を半導体基板18表面に滴下し、回転手段3で半導体基板18を除々に回転速度を上げながら回転させることにより、滴下した超純水の液滴が半導体基板18表面の全面を移動し、液滴中に洗浄薬品の凝集液を溶解させ、この液滴を半導体基板18の外へ除去することにより、洗浄薬品および半導体基板18表面の金属不純物や自然酸化膜を除去することができる。
請求項（抜粋）：
洗浄薬品の蒸気を基板と所定の時間接触させる工程と、前記基板の中央部に超純水を滴下し前記基板を回転させることにより滴下した超純水の液滴を前記基板の中央部から外周方向へ移動させる工程とを含む基板洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/304 351
, B08B 3/10
