特許
J-GLOBAL ID：200903050910816430
リング状ESD保護領域を設けたマスク縁部を有するフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-588651
公開番号（公開出願番号）：特表2002-532758
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：
【要約】フォトマスク(1)は、金属マスク材料の層(4)が設けられた第1の面を有する透過基板(2)を含む。この層に、マスク材料の内側部(6)と外側部(7)で囲まれたマスクパターン(5)が形成され、その内側部と外側部はリング状保護領域(8)で分離されている。この保護領域に、内側部と外側部の近くで、かつそこからマスクパターン(5)内のパターン部分の間の最小間隔に比べて小さい間隔をおいて位置付けられた端部(11)を有するトラックを含む保護パターンが形成される。したがって、フォトマスクは、マスクパターンに損傷を与える恐れのある静電放電から保護される。
請求項（抜粋）：
放射線を透過する電気絶縁材料の基板を有し、 その基板の第1の面に、像として形成されるマスクパターンが、マスク材料の内側縁部と外側縁部で囲まれて形成されている、電気伝導性マスク材料の層が設けられ、 これら縁部がリング状保護領域によって互いに電気的に分離されているフォトマスクであって、 前記リング状保護領域が、マスク材料の層に形成された保護パターンを含み、 前記保護パターンが、トラックを含み、 このトラックは、前記内側縁部または前記外側縁部の近くで、かつ、前記内側縁部または前記外側縁部から、前記マスクパターン内に存在するパターン部分の間の最も小さな間隔よりも小さな間隔をおいて位置付けられた、端部を有する、 ことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 Z
, G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 P
