金属薄膜の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-281917
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128730
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】高反射率の金属薄膜を効率良く製造する。【構成】所定の圧力に設定された第1の真空空間51中でアーク放電によりプラズマを生成し、該プラズマを前記第1の真空空間よりも低い圧力に設定された第2の真空空間(真空容器6内)に設置された蒸着源に照射することで該第2の真空空間中で成膜を行うアーク放電型イオンプレーティングによる金属薄膜の製造方法において、前記第2の真空空間の成膜時の圧力を5×10-4Torr以下に設定した。

請求項（抜粋）：

所定の圧力に設定された第1の真空空間中でアーク放電によりプラズマを生成し、該プラズマを前記第1の真空空間よりも低い圧力に設定された第2の真空空間に設置された蒸着源に照射することで該第2の真空空間中で成膜を行うアーク放電型イオンプレーティングによる金属薄膜の製造方法において、前記第2の真空空間の成膜時の圧力を5×10-4Torr以下に設定したことを特徴とする金属薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/32 , C23C 14/08 , C23C 14/24

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