特許
J-GLOBAL ID:200903050920212126

液晶配向膜の製造方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶原 康稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-339291
公開番号(公開出願番号):特開平11-160711
出願日: 1997年11月25日
公開日(公表日): 1999年06月18日
要約:
【要約】【課題】 特性の優れた良好な配向膜を形成するとともに、製造における量産性の改善を図る。【解決手段】 基板10をホルダ12にセットし、イオンガン16によるイオンビームを照射しながら蒸発源14でSiO2を蒸発させる。このとき、ホルダ12を回転させてもよい。基板10上には、イオンが照射されつつ、SiO2による配向膜34が斜め蒸着される。そして、所定の膜厚の配向膜の形成後に、直鎖の高級アルコール,例えばオクタデカノールの蒸気中に晒す処理が施されて配向処理される。これによって、配向膜上にアルコール膜が付着形成される。このようにして得た配向処理基板をスペーサを介して2枚組み合せ、液晶セルを構成する。
請求項(抜粋):
複数の基板を蒸着源に対して一定の角度で配置し、イオンビームを照射しながら配向膜を形成する液晶配向膜の製造方法において、前記イオンビームのイオン源の特性に応じたスリットを有する遮蔽手段を、前記基板の前側に配置したことを特徴とする液晶配向膜の製造方法。

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