特許
J-GLOBAL ID:200903050938805930

シリカゾル及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 徳廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-119616
公開番号(公開出願番号):特開平5-294612
出願日: 1992年04月14日
公開日(公表日): 1993年11月09日
要約:
【要約】【目的】 Naの少ないシリカゾルおよびその製造方法を提供する。【構成】 シリカゾル中のナトリウム成分がSiO2 に対しNa2 Oとして0.05wt%以下の実質的に含有しないシリカゾルであって、該シリカゾルを粉末としたとき、次式(1)【数1】(S1 はシリカゾルを150°C、3時間乾燥した粉末及びS2 は乾燥粉末を1100°C、3時間焼成した粉末のそれぞれのBET比表面積(m2 /g)を表わす)で示される比表面積変化率(R)が50%以下であるシリカゾル。珪酸ソーダ水溶液をイオン交換により脱Na+ して活性な珪酸溶液を得る第1工程、該珪酸溶液に第四級アンモニウム水酸化物を添加した後、加熱熟成してコロイド状珪酸を形成する第2工程、次いで該コロイド液を再びイオン交換により脱カチオン処理を施す第3工程よりなるシリカゾルの製造方法。
請求項(抜粋):
シリカゾル中のナトリウム成分がSiO2 に対しNa2 Oとして0.05wt%以下の実質的に含有しないシリカゾルであって、該シリカゾルを粉末としたとき、次式(1)【数1】(式中、S1 はシリカゾルを150°C、3時間乾燥した粉末及びS2 は乾燥粉末を1100°C、3時間焼成した粉末のそれぞれのBET比表面積(m2 /g)を表わす)で示される比表面積変化率(R)が50%以下であることを特徴とするシリカゾル。
引用特許:
出願人引用 (8件)
  • 特開昭63-123807
  • 特開昭61-158810
  • 特開昭49-058098
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審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-123807
  • 特開昭61-158810
  • 特開昭63-123807
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