特許

J-GLOBAL ID：200903050940059774

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 西岡 賢太郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271019
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093955
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 一定のサイクル時間ごとに基板を受け入れて処理する基板処理装置において、前工程の処理時間のばらつきによるスループットの低下を抑える。【解決手段】 複数の基板を保持して一括搬送し、受入部、第1処理部、第2処理部および払出部を順次経由するように各基板を搬送する基板処理装置であって、所定のサイクル時間T1ごとに基板を搬送する必要がある基板処理装置において、1枚目の基板が受け入れられた時刻0から所定の待機時間T2だけ基板の搬送開始を遅らせる。これにより、前工程の動作のばらつきにより基板の受け入れ時刻が予定の時刻よりも時間ΔTだけ遅れたとしても、この基板を予定通りに搬送して処理を行うことができる。その結果、基板を受け取り損ねてスループットが低下してしまうことを防止することができる。

請求項（抜粋）：

前工程からのガラス基板を一定のサイクル時間ごとに受け入れて処理を行う基板処理装置であって、複数の処理部と、一連のガラス基板のそれぞれが前記複数の処理部を順次経由するように、複数のガラス基板を一括搬送する搬送手段と、前工程の動作に基づいて決定される搬送基準時から前工程の処理時間の最大ばらつき時間を超える所定の待機時間経過後に、一連のガラス基板の最初のガラス基板の搬送を前記搬送手段に開始させる制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

Fターム (8件)：

5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA09 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031MA30 ,  5F031PA03 ,  5F031PA04