特許

J-GLOBAL ID：200903050941949382

上向流ろ過器および水処理設備

発明者： 福田 一美
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-284288
公開番号（公開出願番号）：特開2002-086174
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年03月26日
要約：

【要約】【課題】 設備の小型化が可能であると共に、設備の維持管理が容易な上向流ろ過器および該上向流ろ過器を用いた水処理設備の提供。【解決手段】 原水流入管20からろ材層2の下方に原水を流入せしめ、ろ材層2を上向流で通水する上向流ろ過器1であって、好ましくはろ材層2を浮遊性ろ材2aで構成し、原水流入管20を、流入原水が、ろ材層2下方において上向流ろ過器1水平断面中心を通る鉛直軸VLの周りに旋回流を形成するように配設した上向流ろ過器、並びに、原水取水設備30と、上向流ろ過器1と、原水取水設備30と上向流ろ過器1との間に設けられた原水送給配管系統35を有する水処理設備であって、上向流ろ過器1として前記した上向流ろ過器を配設した水処理設備、および該水処理設備における原水取水設備30および/または原水送給配管系統35に原水中挟雑物の破砕機32を配設した水処理設備。

請求項（抜粋）：

原水流入管(20)からろ材層(2) の下方に原水を流入せしめ、前記ろ材層(2) を上向流で通水する上向流ろ過器(1) であって、前記原水流入管(20)を、流入原水が、前記ろ材層(2) 下方において上向流ろ過器(1) 水平断面中心を通る鉛直軸(VL)の周りに旋回流を形成するように配設したことを特徴とする上向流ろ過器。

IPC (4件)：

C02F 3/06 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 3/08 ,  C02F 3/10

FI (4件)：

C02F 3/06 ZAB ,  C02F 1/00 X ,  C02F 3/08 B ,  C02F 3/10 A

Fターム (6件)：

4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003DA04 ,  4D003EA14 ,  4D003EA28 ,  4D003EA30