特許

J-GLOBAL ID：200903050945120021

電子ビーム描画装置および描画方法

発明者： 門脇 康浩 ,  水野 一亥
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288882
公開番号（公開出願番号）：特開2002-093694
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】パターン密度の疎密により熱の影響の受け方が変わり所望の寸法精度が得られてよいという問題があった。したがって、試料のレジストへの熱の影響を低減して高精度に描画を行う。【解決手段】回路パターンを電子ビームの大きさを可変として多重描画し且つ電子ビームの大きさに応じて複数回の各回ごとの照射時間を変更する。

請求項（抜粋）：

電子ビームの大きさを可変として試料へ複数回照射する多重描画により回路パターンを前記試料へ描画する電子ビーム描画装置において、前記電子ビームの大きさに基づいて前記複数回の各回ごとの電子ビームの照射時間を演算する演算手段を備え、該演算結果に基づいて前記多重描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (3件)：

G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 M

Fターム (11件)：

2H097AA11 ,  2H097BA02 ,  2H097BB01 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034AB01 ,  5C034BB03 ,  5C034BB10 ,  5F056CB03 ,  5F056CC16 ,  5F056CD15