特許
J-GLOBAL ID:200903050962816277
有機発光構造体と陰極緩衝層との間に改質界面を与える電子注入層
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-213312
公開番号(公開出願番号):特開2000-058266
出願日: 1999年07月28日
公開日(公表日): 2000年02月25日
要約:
【要約】【課題】 有機発光構造体または有機EL媒体の作製に当り、高エネルギー蒸着を用いる際の損傷を排除すること、およびその有効な陰極の形成に当り、高仕事関数の金属または金属酸化物の使用を可能にすること。【解決手段】 基体702;基体上に配置した陽極704;陽極上に配置した有機発光構造体720;有機発光構造体上に配置され、陰極の高エネルギー蒸着を可能にするように選択される材料からなる陰極緩衝層730;陰極緩衝層上に配置した陰極710;および有機発光構造体と陰極緩衝層との間に電子注入材料を配備した界面層750、を含む有機発光装置。
請求項(抜粋):
a)基体、b)基体上に配置された陽極、c)陽極上に配置された有機発光構造体、d)有機発光構造体上に配置され、かつ陰極の高エネルギー蒸着を許容するように選択された材料からなる陰極緩衝層、e)陰極緩衝層上に配置された陰極、およびf)有機発光構造体と陰極緩衝層との間に電子注入材料が配備された界面層を含む、有機発光装置。
IPC (3件):
H05B 33/22
, H01L 33/00
, H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/22 B
, H01L 33/00
, H05B 33/14 A
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