特許
J-GLOBAL ID:200903050968902884

物質濃度測定用X線蛍光放射分析

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤村 元彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-589938
公開番号(公開出願番号):特表2002-533674
出願日: 1999年12月06日
公開日(公表日): 2002年10月08日
要約:
【要約】光導波路の形成に使用されるスートプリフォーム(12)の少なくとも一部を構成するスートのドーパント濃度を決定する方法と装置が開示されている。光子源(30)がマンドレル(14)上のスートプリフォームを照射する。照射されたスートからX線蛍光放射が検出され、蛍光X線の放射に基づいてドーパント濃度が決定される。さらに、スート内のドーパント濃度と既定の濃度の偏差決定のためにX線蛍光放射を利用し、且つ、その偏差に基づいて堆積状態を調整することで、プリフォーム上のスートの層内のドーパント濃度は制御される。
請求項(抜粋):
光導波路の形成に使用されるスートプリフォームの少なくとも一部を構成するスートのドーパント濃度を測定する方法であって、 前記スートを光子にて照射する照射ステップと、 照射された前記スートからX線蛍光放射を検出する検出ステップと、 検出された前記X線蛍光放射に基づいてドーパント濃度を測定するステップと、 からなることを特徴とする方法。
IPC (2件):
G01N 23/223 ,  C03B 37/018
FI (2件):
G01N 23/223 ,  C03B 37/018 C
Fターム (12件):
2G001AA01 ,  2G001AA02 ,  2G001AA07 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA03 ,  2G001KA01 ,  4G021EA03 ,  4G021EB11 ,  4G021EB26

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