特許

J-GLOBAL ID：200903050968986050

酸化物粉末製造方法

発明者： 佐々木 厳 ,  鷹取 一雅 ,  渡辺 直義 ,  則竹 達夫 ,  杉山 純 ,  畑中 達也
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-206298
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044206
出願日： 1998年07月22日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】 少ないプロセスによって、粒子表面にむらなく均一に被膜が形成された酸化物粉末を製造する。【解決手段】 合成される酸化物粉末の原料イオンを含有する原料水溶液を可燃性液体中に乳濁させてエマルジョンとなす工程と、エマルジョン10を液滴状に噴霧し、該液滴中の可燃性液体を燃焼させて該酸化物粉末を合成する工程とを含む酸化物粉末製造方法であって、合成される前記可燃性液体中に、前記酸化物粉末の表面に形成される被膜の原料を溶解もしくは懸濁させておくことを特徴とする製造方法によって酸化物粉末を製造する。

請求項（抜粋）：

合成しようとする酸化物粉末の原料イオンを含有する原料水溶液を可燃性液体中に乳濁させてエマルジョンとなす工程と、該エマルジョンを液滴状に噴霧し、該液滴中の可燃性液体を燃焼させて該酸化物粉末を合成する工程とを含む酸化物粉末製造方法であって、前記可燃性液体中に、合成される前記酸化物粉末の表面に形成される被膜の原料を溶解もしくは懸濁させておくことを特徴とする酸化物粉末製造方法。

IPC (5件)：

C01B 13/34 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/04 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40

FI (5件)：

C01B 13/34 ,  H01M 4/02 C ,  H01M 4/04 A ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z

Fターム (27件)：

4G042DA01 ,  4G042DB09 ,  4G042DB27 ,  4G042DE15 ,  5H003AA08 ,  5H003BA00 ,  5H003BA01 ,  5H003BA03 ,  5H003BB05 ,  5H003BC01 ,  5H003BC05 ,  5H014AA02 ,  5H014BB00 ,  5H014BB01 ,  5H014BB06 ,  5H014CC01 ,  5H014EE10 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL13 ,  5H029AM03 ,  5H029AM07 ,  5H029CJ00 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ08 ,  5H029CJ28 ,  5H029DJ16