特許

J-GLOBAL ID：200903050974622745

CVD装置および製膜方法ならびに情報記録媒体の製造方法

発明者： 牛尾 隆一 ,  笹岡 泰 ,  野川 典和
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-351005
公開番号（公開出願番号）：特開2002-155362
出願日： 2000年11月17日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】製膜室の内壁面に付着した薄膜の剥離現象が抑制されたプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】製膜室内で製膜原料ガスをプラズマ状態とし、基板表面に加速衝突させて製膜するプラズマCVD装置において、熱電導率が200W/m・K以下の材料で製膜室の内壁を構成して成る。

請求項（抜粋）：

製膜室内で製膜原料ガスをプラズマ状態とし、基板表面に加速衝突させて製膜するプラズマCVD装置において、熱電導率が200W/m・K以下の材料で製膜室の内壁を構成して成ることを特徴とするCVD装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/26 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

C23C 16/44 J ,  C23C 16/26 ,  G11B 5/84 B

Fターム (13件)：

4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030DA06 ,  4K030JA10 ,  4K030KA08 ,  4K030KA12 ,  4K030KA46 ,  4K030LA20 ,  5D112AA07 ,  5D112BC05 ,  5D112FA10 ,  5D112FB22 ,  5D112FB24