特許

J-GLOBAL ID：200903050980996754

X線反射用光学素子の作製方法

発明者： 片倉 則浩
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047411
公開番号（公開出願番号）：特開平7-260998
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 基板の球面やトロイダル曲面を従来よりも容易かつ正確に作製してX線反射用光学素子の精度を改善できる方法を提供する。【構成】 基板2上に複数の曲面3aを設けた後、曲面3a上にX線を反射する多層膜4を形成するX線反射用光学素子1の作製方法において、基板2にレジスト30を塗布し、このレジスト30に対する露光量をレジスト30上の位置に応じて変化させて曲面3aを形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に複数の曲面を設けた後、前記曲面上にX線を反射する多層膜を形成するX線反射用光学素子の作製方法において、前記基板にレジストを塗布し、このレジストに対する露光量をレジスト上の位置に応じて変化させて前記曲面を形成することを特徴とするX線反射用光学素子の作製方法。