特許
J-GLOBAL ID：200903050986753039
パターン転写用マスク及びその作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266441
公開番号（公開出願番号）：特開平9-090608
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 転写に使用する光学装置のレンズによって生じるパターン幅の変動を抑制し、均一なパターン線幅のパターンを被パターン形成体に転写できるパターン転写用マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本パターン転写用マスクは、光学装置により被パターン形成体上にパターンを転写するためのマスクパターンを有するマスクであって、パターン転写用マスクを透過する光の光透過率が中心部から周辺部に向かって逓減するように形成されている。本マスク10は、石英ガラス基板12と、石英ガラス基板の一方の面上に光透過率を全面にわたり均一になるように成膜された第1のクロム膜14と、第1の遮光膜に形成されたマスクパターンと、一方の面に対向する面に光透過率が周辺部から中心部に向かって光透過率が逓減するように成膜された第2のクロム膜16とを備えている。これにより、レンズに起因したパターン線幅分布を相殺することができる。
請求項（抜粋）：
光学装置により被パターン形成体上にパターンを転写するためのマスクパターンを有するパターン転写用マスクにおいて、パターン転写用マスクを透過する光の光透過率が周辺部から中心部に向かって逓減するように形成されていることを特徴とするパターン転写用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 Z
, H01L 21/30 502 P
