表面処理基体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽鳥修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-043608
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254169
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】導電化、及び低表面エネルギー化する処理が有効になされ、帯電に起因する汚れだけでなく、水溶性粘着物、油性粘着物、或いは高湿環境での液架橋力からの塵埃粒子の付着による汚れ等を防止することのできる表面処理基体及びそれを用いた光記録媒体を提供。【構成】本発明は、基材(S)の表面或いは基材上に形成された有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥油性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び反応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性エネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基材(S)の表面或いは基材上に形成された有機保護膜(A)の表面に、該表面を撥水性及び撥油性の少なくとも一方の機能を有する機能基(H)及び反応基(R)を分子中に含む化合物で被覆して反応活性エネルギー線の照射により得られた被覆層(C)が形成されていることを特徴とする光学材料用の表面処理基体。

IPC (2件)：

G11B 7/24 537 , G11B 7/24

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