特許
J-GLOBAL ID：200903051006943038

金属及び金属/誘電体構造物を化学機械研磨するための組成物

発明者：
ロター・プツペ

ロター・プツペ について

, 
ゲルト・パシング

ゲルト・パシング について

, 
ミング-シー・ツアイ

ミング-シー・ツアイ について


出願人/特許権者：
バイエル アクチェンゲゼルシャフト

バイエル アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-362086
公開番号（公開出願番号）：特開2003-224092
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】 金属及び金属/誘電体構造物を化学的機械研磨するための組成物。【解決手段】 2.5ないし70容積%の30重量%のカチオン変成シリカゾルを含有する組成物であって、このカチオン変成SiO2粒子が12ないし300nmの平均粒子サイズと0.05ないし22重量%の少なくとも一つの酸化剤を有する、2.5ないし6のpHの組成物が金属及び金属/誘電体構造物を化学的機械研磨するための研磨スラリーとして抜群に好適である。
請求項（抜粋）：
カチオン変性されたSiO2粒子の平均粒径が12ないし300nmであり、30重量%がカチオン変性されたシリカゾル2.5ないし70容量%、及び少なくとも一種の酸化剤0.05ないし22重量%を含有し、pHが2.5から6である組成物。
IPC (5件)：
H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14
FI (5件)：
H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/304 622 X ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z
Fターム (5件)：
3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • WO-A99/64527
  • から知られている
  • WO-A99/67056
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM