特許

J-GLOBAL ID：200903051008294983

N-フエニル-N-(3-アミノフエニル)-1-ピレニルアミン誘導体及びN-フエニル-N-(3-ニトロフエニル)-1-ピレニルアミン誘導体、並びにそれらの製造方法

発明者： 島田 知幸 ,  佐々木 正臣 ,  有賀 保 ,  安達 浩
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-248364
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058966
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】 電子写真特性に優れ、光導電性材料として有用かつ新規なN-フェニル-N-(3-アミノフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体、その新規な中間原料N-フェニル-N-(3-ニトロフェニル)-1-ピレニリアミン誘導体、及びそれらの製造方法を提供する。【構成】 下記化1【化1】(Rは水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルコキシ基、またはフェニル基を表わす。)で表わされるN-フェニル-N-(3-アミノフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体、その中間原料N-フェニル-N-(3-ニトロフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体、及び3-ニトロ-ジフェニルアミン誘導体と1-ハロゲノピレンとを反応させ、N-フェニル-N-(3-ニトロフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体を得、次いで還元することにより、上記N-フェニル-N-(3-アミノフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体を製造する方法。

請求項（抜粋）：

下記化1【化1】(Rは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、または置換もしくは無置換のフェニル基を表わす。)で表わされるN-フェニル-N-(3-アミノフェニル)-1-ピレニルアミン誘導体。

IPC (4件)：

C07C211/57 ,  C07C209/36 ,  C07C211/59 ,  G03G 5/06 312