パターン描画方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：筒井大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-162703
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013312
出願日： 1991年07月03日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：

【要約】【目的】相当規模のパターンデータを繰り返し使用するパターン描画処理、さらには描画作業指示や工程管理などを、安価かつ簡便に遂行することが可能なパターン描画技術を提供する。【構成】電子ビーム2よってウェハ5にパターン描画を行うパターン描画装置に、パターン描画作業の制御に用いられるジョブデータおよびパターンデータの少なくとも一方が格納されたICカード15が装填されるICカードリーダ/ライター16を設けた。

請求項（抜粋）：

ジョブデータとパターンデータに基づいて粒子線を制御し、対象物にパターンを描画するパターン描画方法であって、前記ジョブデータおよびパターンデータの少なくとも一方をICカードを媒介として入力することを特徴とするパターン描画方法。

FI (5件)：

H01L 21/30 341 J , H01L 21/30 321 , H01L 21/30 331 A , H01L 21/30 331 E , H01L 21/30 351

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