特許
J-GLOBAL ID：200903051036021852
感光性転写シート及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213462
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035200
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 感光性樹脂層を有する感光性転写シートと感光性樹脂層を転写すべき支持体とを貼り合わせた積層物から、仮支持体を剥離する際に塵埃等が感光性樹脂層の上に付着することの無い感光性転写シートを提供する。【構成】 合成樹脂製の仮支持体上に、バリヤー性剥離層又は剥離層及びバリヤー層、並びにアルカリ現像型の感光性樹脂層がこの順で積層されてなる感光性転写シートに於いて、仮支持体が1013Ω/□以下の表面電気抵抗値を有する感光性転写シート。この感光性転写シートを使用して支持体上にその感光性樹脂層を転写しレジストパターンを形成する方法。
請求項（抜粋）：
合成樹脂製の仮支持体上に、バリヤー性剥離層又は剥離層及びバリヤー層、並びにアルカリ現像型の感光性樹脂層がこの順で積層されてなる感光性転写シートに於いて、仮支持体が1013Ω/□以下の表面電気抵抗値を有することを特徴とする感光性転写シート。
IPC (6件)：
G03F 7/11
, C23F 1/00 102
, G03F 7/004 512
, G03F 7/26 521
, H01L 21/027
, H05K 3/06
