特許

J-GLOBAL ID：200903051038618155

Al膜形成材料及びAl膜形成方法

発明者： 町田 英明 ,  中川 政和 ,  須藤 弘 ,  吉澤 康 ,  林 信一朗 ,  田畑 志穂
出願人/特許権者： 株式会社トリケミカル研究所
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-251111
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096079
出願日： 1996年09月24日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 均一で高品質なAl膜が得られる技術を提供することである。【解決手段】 25°Cにおける粘度が1〜2000cPのジメチルアルミニウムハイドライドからなるAl膜形成材料。

請求項（抜粋）：

25°Cにおける粘度が1〜2000cPのジメチルアルミニウムハイドライドからなることを特徴とするAl膜形成材料。

IPC (4件)：

C23C 16/20 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/20 ,  H01L 21/28 301 L ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/88 N