特許
J-GLOBAL ID：200903051051258761
薄膜人工格子の形成方法および薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-142533
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324259
出願日： 1996年06月05日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 比較的簡便な方法により形成されるミクロンスケールの、特に基板に対して垂直又は平行ではないある角度を有する人工格子構造を実現する。【解決手段】 あるエネルギー線またはエネルギーの異なる複数種類のエネルギー線を用い、複数種類のエネルギー線のうち1種類を除いて他は2分割し、2分割されたエネルギー線は作成しようとする人工格子形成のための被処理物を構成する材料系に干渉を起こしうるように照射し、(被処理物はエネルギー線の特定のエネルギーを吸収しうる物質を含有する材料系からなる場合もある)、2分割されたエネルギー線の照射により材料系の一部分を改変しそれぞれ所望の物性を有する領域A1と領域A2が交互に繰り返す構造を形成する人工格子を作成するものである。
請求項（抜粋）：
被処理物にエネルギー線を照射することを利用して異なる物性を有する領域1及び領域2の繰り返しからなる薄膜人工格子を形成するにあたり、前記エネルギー線を2分割し前記2分割したエネルギー線を被処理物上にて干渉させ照射し、前記被処理物を構成する材料系の一部分あるいは前記被処理物上に堆積される物質の一部を改変することにより形成されることを特徴とする薄膜人工格子の作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/00 Z
, C30B 29/48
