特許

J-GLOBAL ID：200903051056142290

吸収冷凍機用再生器

発明者： 西山 教之 ,  設楽 敦 ,  木谷 一夫 ,  安東 賢二
出願人/特許権者： 東京瓦斯株式会社 ,  住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-266384
公開番号（公開出願番号）：特開平8-105669
出願日： 1994年10月04日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【目的】 低温廃熱や蒸気などの熱源を有効に利用して希溶液の均一加熱を行い再生効率を向上させ、かつ冷媒蒸気と濃溶液の分離効率を高めた小型の吸収冷凍機用再生器の提供。【構成】 通路6上部より希溶液WSを導入して液膜流下させ、隣接の加熱流体HFと熱交換させるプレートフィン型熱交換器の構成となし、溶液通路6内で発生した冷媒蒸気VRを濃溶液CSとともに流下させ、熱交換器下部の空間部10で気液分離することにより、単位体積当たりの伝熱面積が大きく、温水などの低温廃熱や蒸気などの熱源を有効に利用して希溶液の均一加熱を行い、低温度差で伝熱が効果的に行われ、溶液の濃縮が均一かつ効率よく実施され、さらに溶液と冷媒蒸気VRをとともに流下させるため、蒸気流による溶液の吹き上げがなく、溶液が飛沫状になるのを防止して希溶液WSを効率よく濃縮しかつ冷媒蒸気と濃溶液の分離効率を高める。

請求項（抜粋）：

溶液通路と加熱流体通路とを隣接積層配置したプレートフィン型熱交換器の構成からなり、溶液通路上部より希溶液を液膜流下させ、隣接の加熱流体との熱交換にて発生した冷媒蒸気を濃溶液とともに流下させた後、溶液通路下端に設けた分離空間部で気液分離することを特徴とする吸収冷凍機用再生器。