特許
J-GLOBAL ID：200903051056302718
高調波レーザ装置、その製造方法、およびそれを用いた画像表示装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172446
公開番号（公開出願番号）：特開2005-352129
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】 基本波光源である半導体レーザの出射光と高調波発生導波路の結合効率を高くする。【解決手段】 半導体レーザの出射端と高調波発生導波路の入射端との間に半導体レーザ光の波長には感度を持たず、高調波光の波長に感度を持つ感光性樹脂から形成された光ガイドが設けられている高調波レーザ装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
半導体レーザと、半導体レーザ光を高調波光に変換する高調波発生導波路とを有する高調波レーザ装置であって、前記半導体レーザの出射端と前記高調波発生導波路の入射端との間に、前記半導体レーザ光の波長には感度を持たず、前記高調波光の波長に感度を持つ感光性樹脂から形成された光ガイドが設けられており、前記光ガイドによって前記半導体レーザ光が前記高調波発生導波路に導かれる構成を有していることを特徴とする高調波レーザ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2K002AA07
, 2K002AB12
, 2K002BA01
, 2K002CA03
, 2K002DA06
, 2K002EA30
, 2K002FA27
, 2K002GA07
, 2K002HA20
