特許
J-GLOBAL ID:200903051059400800
フェライト組成物の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
前田 均
, 西出 眞吾
, 大倉 宏一郎
, 佐藤 美樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-098237
公開番号(公開出願番号):特開2005-281069
出願日: 2004年03月30日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】 フェライト原料を水等の溶媒と混合してスラリー化し、スラリー状態で原料の配合および粉砕を行う湿式法において、配合・粉砕後のスラリーの乾燥およびフェライト原料の仮焼きを一度に行うことにより、コアロス等の電磁気特性を低下させることなく、フェライト組成物の生産効率の向上および製造コストの低減を図る。【解決手段】 フェライト原料と溶媒とを含有するフェライトスラリーを準備する工程と、前記フェライトスラリーを、スラリーの状態で、ロータリーキルン内に投入する工程と、前記ロータリーキルン内で、前記スラリー中の溶媒の乾燥・除去、および前記フェライト原料の仮焼きを一度に行う工程とを、有することを特徴とするフェライト組成物の製造方法。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
フェライト原料と溶媒とを含有するフェライトスラリーを準備する工程と、
前記フェライトスラリーを、スラリーの状態で、ロータリーキルン内に投入する工程と、
前記ロータリーキルン内で、前記スラリー中の溶媒の乾燥・除去、および前記フェライト原料の仮焼きを一度に行う工程とを、
有することを特徴とするフェライト組成物の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C04B35/26 A
, C01G49/00 A
Fターム (12件):
4G002AA06
, 4G002AA07
, 4G002AB02
, 4G002AB03
, 4G002AE02
, 4G002AF01
, 4G018AA01
, 4G018AA21
, 4G018AA23
, 4G018AA24
, 4G018AA25
, 4G018AC01
引用特許:
出願人引用 (7件)
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特公平2-46877号公報
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特公平2-55708号公報
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特公平2-55709号公報
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