特許

J-GLOBAL ID：200903051061945082

排気装置および排気方法

発明者： 岩田 輝夫 ,  藤川 雄一郎 ,  堀内 孝 ,  林 和一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-164879
公開番号（公開出願番号）：特開平11-001773
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】 クリーニングの際に用いられるトラップのメンテナンスの際に装置を停止する必要がなく、しかもトラップを取り外した際にその中の反応生成物が化学反応を起こすおそれがない排気装置および排気方法を提供すること。【解決手段】 基板Wを収容するチャンバー1と、チャンバー1内に成膜ガスを導入する成膜ガス導入系と、チャンバー1内にクリーニングガスを導入するクリーニングガス導入系と、チャンバー1内を排気する排気系9とを具備する。排気系9は、主排気ライン31と、主排気ライン31に設けられた排気ポンプ33と、主排気ライン31をバイパスするバイパスライン32と、バイパスライン32に設けられたトラップ34と、トラップ34内を真空封入するためのバルブ37,38と、バイパスライン32のトラップ34の前段部および後段部にガスを封入するためのガス供給系40,41と、主排気ラインを開閉するバルブ35と、バイパスラインを開閉するバルブ36とを有する。

請求項（抜粋）：

チャンバー内に被処理基板を設置し、被処理基板に対して成膜処理行い、その後チャンバー内にクリーニングガスを導入してクリーニング処理を行う成膜装置に用いられる排気装置であって、前記チャンバーに接続された主排気ラインと、前記主排気ラインに設けられた排気ポンプと、前記主排気ラインをバイパスするバイパスラインと、前記バイパスラインに取り外し可能に設けられたトラップと、前記トラップ内を真空封入するための真空封入バルブと、前記バイパスラインの前記トラップの前段部および後段部にガスを封入するためのガス供給手段と、前記主排気ラインを開閉する第1の開閉バルブと、前記バイパスラインを開閉する第2の開閉バルブとを有することを特徴とする排気装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 16/44 D ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 C