特許
J-GLOBAL ID：200903051071229628
シリカゾル及びシリカ粉末
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-232466
公開番号（公開出願番号）：特開2003-104714
出願日： 1992年04月14日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【目的】 Naの少ないシリカゾルを提供する。【構成】 珪酸ソーダ水溶液から得られた珪酸溶液にテトラエタノールアンモニウム水酸化物またはモノメチルトリエタノールアンモニウム水酸化物からなる第四級アンモニウム水酸化物を添加し、該第四級アンモニウム水酸化物をシリカゾル製造工程における粒子成長工程で使用し、粒子成長後のシリカゾルからイオン交換によって第四級アンモニウムイオンを除去して生成したシリカゾルであって、ゾル中のシリカ粒子の粒子径が10〜20Nmで、かつNa成分の含有量がSiO2に対しNa2Oとして0.011wt%以下であるシリカゾル。前記シリカゾルがアルミナ成分をSiO2に対しAl2O3として多くとも2wt%含有する。
請求項（抜粋）：
珪酸ソーダ水溶液から得られた珪酸溶液にテトラエタノールアンモニウム水酸化物またはモノメチルトリエタノールアンモニウム水酸化物を添加して生成したシリカゾルであって、ゾル中のシリカ粒子の粒子径が10〜20Nmで、かつNa成分の含有量がSiO2に対しNa2Oとして0.011wt%以下であることを特徴とするシリカゾル。
Fターム (20件)：
4G072AA28
, 4G072AA36
, 4G072AA38
, 4G072BB05
, 4G072CC01
, 4G072EE01
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH18
, 4G072HH21
, 4G072KK15
, 4G072LL06
, 4G072PP01
, 4G072QQ05
, 4G072TT06
, 4G072TT19
, 4G072TT20
, 4G072UU01
, 4G072UU15
