特許
J-GLOBAL ID:200903051089915910

露光装置及び露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 孝久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-231318
公開番号(公開出願番号):特開平10-064801
出願日: 1996年08月13日
公開日(公表日): 1998年03月06日
要約:
【要約】【課題】ウエハ面内において、各露光ショット毎、出来る限りパターン線幅を均一化し得る露光方法を提供する。【解決手段】本発明の露光方法は、ウエハの所定の位置から各露光ショットの位置までの距離の関数として各露光ショットにおける露光量を制御することを特徴とする。ウエハの所定の位置をウエハの中心を占める露光ショットの中心とし、各露光ショットの位置を露光ショットの中心とし、ウエハの中心を占める露光ショットの中心から各露光ショットの中心までの距離をrとしたとき、前記関数はrのn次の多項式で表されることが好ましい。
請求項(抜粋):
ウエハの所定の位置から各露光ショットの位置までの距離の関数として各露光ショットにおける露光量を制御することを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521
引用特許:
審査官引用 (11件)
  • 特開平1-134920
  • 半導体素子用縮小投影型露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-166494   出願人:株式会社東芝
  • 特開平4-282820
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