特許
J-GLOBAL ID：200903051092953008
X線縮小投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-330753
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177014
出願日： 1992年12月10日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 焦点合せのために反射マスクを移動したときに反射されたX線の主光線が移動しないようにする。【構成】 X線源1、照明光学系2、反射マスク3、縮小投影光学系4およびウェハ5とを備えたX線縮小投影露光装置に、X線の光路上の反射マスク3の直前または直後に、反射マスク3と平行に対向する折曲げミラー8と、反射マスク3と折曲げミラー8とを保持して縮小投影光学系4の光軸と平行に移動可能なステージ9とを備える。
請求項（抜粋）：
X線源と、このX線源から発するX線を反射マスク上に照射する照明光学系と、前記反射マスク上に形成されたパターンの像をウェハ上に投影結像する縮小投影光学系と、前記X線源、前記照明光学系、前記反射マスク、前記縮小投影光学系および前記ウェハを真空空間中に保持する真空容器とを備えたX線縮小投影露光装置において、X線の光路上の前記反射マスクの直前または直後に、前記反射マスクと平行に対向する折曲げミラーと、前記反射マスクと前記折曲げミラーとを保持して前記縮小投影光学系の光軸と平行に移動可能なステージとを備えることを特徴とするX線縮小投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
