特許
J-GLOBAL ID：200903051093510029
位置検出方法及び同方法を用いたパターン形成方法並びに装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-179652
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005604
出願日： 1991年07月19日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】本発明は、試料裏面上に設けられた位置検出用マークの位置を検出することによって試料表面上の位置を検出する方法の改良に関する。【構成】試料基板の裏面上に設けられたマークの位置を検出して、該マークの位置から試料基板の表面上におけるパターン形成位置を測定する方法においては、試料基板が傾いた場合、試料基板の裏面と表面との間に位置ずれが生じ、これに起因して試料基板表面上の位置測定値に誤差が生じる。本発明においては、試料基板裏面上のマーク位置の検出値に試料基板の傾き角に依存した偏差分が含まれるようにして、該偏差分によって、上記の位置測定値の誤差分を相殺するように構成している。【効果】試料の傾きに起因する試料基板表面上の位置測定誤差を無視できる程度に低減できる。
請求項（抜粋）：
試料の裏面上におけるある特徴点の位置を検出することによって、試料表面上における上記特徴点に対応する点の位置を間接的に測定するに際して、予め上記特徴点についての位置検出値が試料の傾き角に対応して変化する偏差分を含むようにしておき、該偏差分によって試料が傾くことに起因して試料裏面上の位置と試料表面上の位置との間に生じるずれ量を相殺させることによって、上記偏差分を含んだ上記特徴点についての位置検出値が、常に、試料表面上における上記特徴点に対応する点についての真の位置を示すようにしたことを特徴とする位置検出方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
