特許

J-GLOBAL ID：200903051097725470

マスクの受け渡し方法、及び該方法を使用する露光装置

発明者： 西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-111786
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307425
出願日： 1998年04月22日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 レチクルと投影光学系との間の作動距離が短い場合でも、レチクルステージとレチクルの搬送機構との間でそのレチクルの受け渡しを容易に、かつ高い位置決め精度で行う。【解決手段】 レチクルベース13上のレチクルステージ10上の凹部の載置面33a上にレチクルを載置し、このレチクルのパターンを投影光学系17を介してウエハ上に露光する。レチクルステージ10を転写位置からずらした位置のレチクルベース13に、回転上下駆動部14によって昇降自在に昇降軸29を配置し、その上のレチクルロードアーム6、又はレチクルアンロードアーム7とレチクルステージ10との間で昇降軸29を介してレチクルの受け渡しを行う。昇降軸29上のレチクルのアライメントマークの位置を撮像系2によって検出し、この検出結果に基づいてレチクルの回転誤差、及び位置ずれ量を補正する。

請求項（抜粋）：

マスクステージ上に保持されたマスクのパターンを基板上に転写する露光装置における、前記マスクステージに対するマスクの受け渡し方法において、前記マスクステージのマスクの載置領域を転写時の位置からずらした状態で、前記マスクを降下、又は上昇させて該マスクを前記マスクステージに対して着脱することを特徴とするマスクの受け渡し方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/30 514 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 515 F