特許

J-GLOBAL ID：200903051100141646

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス

発明者： 中川 博雄 ,  本永 稔明 ,  木名瀬 良紀 ,  遊佐 智 ,  角田 成夫 ,  横山 寿文 ,  初田 千秋 ,  藤川 潤二 ,  大槻 雅司
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267552
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072445
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 モリブデンリサイド系のハーフトーン位相シフト膜材料を用い、且つ、モリブデンシリサイド系材料の優れた加工特性、加工後の化学的安定性等を維持しつつ、石英基板とのエツチング選択比を向上させた構造のハーフトーン位相シフトフォトマスクを提供する。【解決手段】 透明基板上のハーフトーン位相シフト層が、モリブデンシリサイドを主成分とし、酸素、窒素のいずれか一方または両方を含む層を少なくとも有し、且つ、二層以上の多層膜から形成されるハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスであって、この多層膜中に、クロムまたはタンタルのいずれか一方またはクロムタンタル合金が主成分である層が含まれ、かつ、このクロムまたはタンタルのいずれか一方またはクロムタンタル合金が主成分である層が、前記モリブデンシリサイドを主成分とし、かつ、酸素、窒素のいずれか一方または両方を含む層よりも、透明基板に近い側に積層されている。

請求項（抜粋）：

透明基板上のハーフトーン位相シフト層が、モリブデンシリサイドを主成分とし、酸素、窒素のいずれか一方または両方を含む層を少なくとも有し、且つ、二層以上の多層膜から形成されるハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスであって、この多層膜中に、クロムまたはタンタルのいずれか一方またはクロムタンタル合金が主成分である層が含まれ、かつ、このクロムまたはタンタルのいずれか一方またはクロムタンタル合金が主成分である層が、前記モリブデンシリサイドを主成分とし、かつ、酸素、窒素のいずれか一方または両方を含む層よりも、透明基板に近い側に積層されていることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BB35