特許

J-GLOBAL ID：200903051109169748

分布磁界を有するマグネトロン・スパッタ・ガン・ターゲット・アセンブリ

発明者： ボーレ・ジェイ・アレン ,  ラル・ビー・ブリッジ ,  エルトウキイ・エッチ・アテフ
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 牧 克次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-226523
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209266
出願日： 1992年08月04日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：

【要約】【目的】 スパッタリング・ターゲットの領域内に、より均一でかつより集中した磁界パターンを形成することにより、ターゲットの寿命を延長し、ターゲットの寿命の尽きるまでスパッタリングされる薄膜の均一性を高めた。【構成】 円形でフラットなターゲット・プレート62を備え、内側リング66と外側リング64がスパッタリング表面から延びているターゲット・アセンブリである。強磁性の外側磁極部材46が、ターゲット・プレート及び外側リング64を包囲している。強磁性の内側磁極部材48が、ターゲット・プレート及び内側リング66によって包囲されている。強磁性の裏当てプレート50が、ターゲット・プレートのベース表面に押しつけられており、その外側部分は、外側磁極部材46に押しつけて配置され、内側部分は、内側磁極部材48に押しつけて配置されている。

請求項（抜粋）：

中心軸まわりに配置され、中心軸を横切って延びるスパッタリング表面、中心軸に近接した内側表面、及び、中心軸から遠い外側表面を備え、スパッタリング表面が内側表面と外側表面の間に延びている、環状のスパッタリング・ターゲットと、ターゲットの外側表面を包囲し、ターゲット表面を越えて延びる外側延長部を備え、磁束源から第1の磁極に対応する磁束を伝導するように配置された強磁性外側磁極手段と、ターゲットの内側表面によって包囲され、ターゲット表面を越えて延びる延長部を備え、第2の磁極に対応する磁束を伝導するように配置された強磁性内側磁極手段から構成され、内側磁極手段と外側磁極手段が、内側延長部と外側延長部の間のターゲットを横切って延びる磁束経路を形成することを特徴とする、磁界源を備えたマグネトロン・スパッタリング装置に用いられるターゲット・アセンブリ。