特許
J-GLOBAL ID:200903051114869677

エチレンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-199769
公開番号(公開出願番号):特開平7-053414
出願日: 1993年08月11日
公開日(公表日): 1995年02月28日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】 エタンを分子状酸素含有ガスと高温度の触媒組成物と接触させるエチレンの製造方法において、該触媒組成物が、モリブデン、バナジウム、テルル及び酸素を必須成分として含み、その粉末X線回折が主として次表に示す相対ピーク強度を有する複合金属酸化物を含む、エチレンの製造方法。------------------------回折角2θ(±0.4 ゚) 相対ピ-ク強度------------------------22.1 ゚ (100)28.2 ゚ (400〜3)36.2 ゚ (80〜3)45.1 ゚ (40〜3)50.0 ゚ (50〜3)------------------------(X線源としてCu-Kα線を使用。)【効果】 エタンの低温酸化脱水素によりエチレンを高収率、かつ高選択的に製造することが出来る。
請求項(抜粋):
エタンを分子状酸素含有ガスと高められた温度で触媒組成物と接触させることによるエチレンの製造方法において、該触媒組成物が、モリブデン、バナジウム、テルル及び酸素を必須成分として含み、その粉末X線回折が主として表-1に示す特徴的パターンを有する複合金属酸化物を含むことを特徴とするエチレンの製造方法。【表1】表-1------------------------回折角2θ(±0.4 ゚) 相対ピ-ク強度------------------------22.1 ゚ (100)28.2 ゚ (400〜3)36.2 ゚ (80〜3)45.1 ゚ (40〜3)50.0 ゚ (50〜3)------------------------(X線源としてCu-Kα線を使用。カッコ内の数字は、22.1 ゚のピ-ク強度を100としたときの相対ピ-ク強度を示す。)
IPC (4件):
C07C 11/04 ,  B01J 27/057 ,  C07C 5/333 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平3-044336
  • 特開昭61-018729
  • 特開昭61-015849

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