特許
J-GLOBAL ID:200903051130026817

高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-050199
公開番号(公開出願番号):特開2001-232180
出願日: 2000年02月25日
公開日(公表日): 2001年08月28日
要約:
【要約】【課題】 低電力で安定したプラズマ維持を可能にし、様々の処理対象物の分解処理を可能にした高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システムを提供する。【解決手段】 放電管2の外周に巻回された高周波コイル5に励磁電流を流して放電管2内部に誘導プラズマを発生させ、放電管2内に導入された処理対象物を分解処理する高周波プラズマによる化合物分解装置において、前記処理対象物、放電補助剤を整流して放電管2内部に導入する整流手段(間隙部100)を設けたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
放電管の外周に巻回された高周波コイルに励磁電流を流して放電管内部に誘導プラズマを発生させ、放電管内に導入された処理対象物を分解処理する高周波プラズマによる化合物分解装置において、前記処理対象物又は放電補助剤又はこれらの混合物を整流して放電管内部に導入する整流手段を設けたことを特徴とする高周波プラズマによる化合物分解装置。
IPC (3件):
B01J 19/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  H05H 1/46
FI (3件):
B01J 19/08 E ,  A62D 3/00 ZAB ,  H05H 1/46 L
Fターム (22件):
2E191BA13 ,  2E191BA15 ,  2E191BD18 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075BA05 ,  4G075BD08 ,  4G075BD12 ,  4G075BD13 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA01 ,  4G075EA07 ,  4G075EB41 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC06 ,  4G075FC09 ,  4G075FC15

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