特許
J-GLOBAL ID:200903051137532343
ブロック共重合体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-344207
公開番号(公開出願番号):特開2000-169531
出願日: 1998年12月03日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 重合の煩雑さや臭気の問題がなく、特定のモノマー組成を特定部位に局在化したABA又はABCブロック共重合体を製造できる方法を得る。【解決手段】 (A)2,4-ジフェニル-4-メチル-1-ペンテン及びラジカル重合開始剤の存在下に、メタクリロイル基含有モノマーを主体とする第1のモノマー成分をラジカル重合してマクロモノマーを製造する工程、(B)該マクロモノマーの存在下に、メタクリロイル基含有モノマーを主体とする第2のモノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合して末端にエチレン性不飽和基を有するABブロック共重合体を製造する工程、及び(C)該ABブロック重合体の存在下に、メタクリロイル基含有モノマーを主体とする第3のモノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合する工程、を順次行うABC又はABAブロック共重合体の製造方法。
請求項(抜粋):
(A)2,4-ジフェニル-4-メチル-1-ペンテンである付加開裂型連鎖移動剤及びラジカル重合開始剤の存在下に、メタクリロイル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%以上含有する第1のモノマー成分をラジカル重合して、末端にエチレン性不飽和基を有するマクロモノマーを製造する工程、(B)該マクロモノマーの存在下に、メタクリロイル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%以上含有し且つ第1のモノマー成分と異なる組成の第2のモノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合して末端にエチレン性不飽和基を有するABブロック共重合体を製造する工程、及び(C)該ABブロック重合体の存在下に、メタクリロイル基を有するエチレン性不飽和化合物を70モル%以上含有し且つ第2のモノマー成分と異なる組成の第3のモノマー成分をラジカル的付加開裂型連鎖移動重合する工程、を順次行うことを特徴とするABC又はABAブロック共重合体の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (39件):
4J011AA05
, 4J011QA03
, 4J011QA05
, 4J011QA06
, 4J011QA07
, 4J011QB02
, 4J011QB19
, 4J011QB25
, 4J011QC06
, 4J011SA76
, 4J011SA79
, 4J011TA08
, 4J011TA10
, 4J011WA01
, 4J011WA02
, 4J011WA07
, 4J011XA02
, 4J027AA01
, 4J027AE04
, 4J027AF05
, 4J027AJ01
, 4J027AJ02
, 4J027AJ08
, 4J027BA02
, 4J027BA05
, 4J027BA06
, 4J027BA07
, 4J027BA08
, 4J027BA09
, 4J027BA10
, 4J027BA12
, 4J027BA13
, 4J027BA14
, 4J027CB03
, 4J027CB09
, 4J027CC02
, 4J027CD01
, 4J027CD08
, 4J027CD10
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