特許

J-GLOBAL ID：200903051144856405

ガス清浄化方法

発明者： 西浦 良樹 ,  照井 定男 ,  山本 光一
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008513
公開番号（公開出願番号）：特開平8-196857
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：

【要約】【構成】 浄化槽7にガスを通気して得られる汚染ガスと、入側8からの外気とを混合する。該混合ガスを送風機構3により、一部を弁5aから脱臭機構6を通過させた後に出側9より大気中に放出する。また同じく送風機構3により、上記混合ガスの残りを弁5bから前記浄化槽7へ導き、通気用ガスとして使用する。【効果】 脱臭機構6及び浄化槽7に対する送風機構6が1つで共有できるから、ガス清浄化装置がコンパクトになる。

請求項（抜粋）：

浄化槽にガスを通気して得られる汚染ガスに、外気を混合し、該混合ガスを送風機構により、一部を脱臭機構を通過させた後に大気中へ放出し、残りを前記浄化槽への通気用ガスとして使用することを特徴とするガス清浄化方法。

IPC (4件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/86 ,  C02F 3/00

FI (2件)：

B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/36 H