特許

J-GLOBAL ID：200903051148393612

噴霧乾燥洗浄もしくは清浄組成物またはその成分

発明者： コトヴィッツ、ベアトリクス ,  ペトコフ、イェルク ,  ザイター、ヴォルフガング ,  シュネップ、カトリン ,  ユング、ディーター
出願人/特許権者： ヘンケル・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-507912
公開番号（公開出願番号）：特表平9-501977
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】洗浄もしくは清浄組成物またはその成分は、アルキル(アルケニル)スルフェートを5〜30重量%の量で、および式: NaMSixO2x+1・yH2O[式中、Mはナトリウムまたは水素であり、xは1.9〜4の数、好ましくは2、3または4であり、yは0〜20の数である。]で示される結晶層状シリケートを水不含有活性物質換算で30〜80重量%の量で含有する。このような生成物は、一次および二次洗浄力を損なうことなく、噴霧乾燥によって製造し得る。

請求項（抜粋）：

アルキル(アルケニル)スルフェート、および式: NaMSiXO2X+1・yH2O[式中、Mはナトリウムまたは水素であり、xは1.9〜4の数であり、yは0〜20の数である。]で示される結晶層状シリケートを含有する洗浄もしくは清浄組成物またはその成分であって、アルキル(アルケニル)スルフェートを5〜30重量%の量で、および結晶層状シリケートを30〜80重量%の量(水不含有活性物質換算)で含有し、噴霧乾燥物の形態である洗浄もしくは清浄組成物またはその成分。

IPC (3件)：

C11D 1/14 ,  C11D 3/08 ,  C11D 11/02

FI (3件)：

C11D 1/14 ,  C11D 3/08 ,  C11D 11/02