特許
J-GLOBAL ID：200903051148514584
カラーフィルタと遮光膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306898
公開番号（公開出願番号）：特開平6-160620
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】赤,緑,青のカラーフィルタを、遮光膜との間に漏光間隙を発生させることなく形成し、しかも、カラーフィルタ表面の段差をなくすとともにカラーフィルタ間の谷間も小さくして平坦性を良くする。【構成】基板上に成膜した導電性下地膜の上に、ポジ型フォトレジストからなるレジスト膜をマスクとして絶縁性の遮光材を電着することにより遮光膜を形成し、この後、下地膜上に残されたレジスト膜を選択的に除去するとともに露出された下地膜の上にフィルタ材料を前記遮光膜をマスクとして電着することによって、赤,緑,青のカラーフィルタを順次形成する。
請求項（抜粋）：
透明基板の上に、間隙を存して互いに隣り合う赤,緑,青のカラーフィルタと、これらカラーフィルタ間の間隙に対応する遮光膜とを形成する方法であって、基板上に透明な導電性下地膜を成膜しその上にポジ型フォトレジストからなるレジスト膜を形成した後、前記レジスト膜の遮光膜形成領域に対応する部分を露光および現像処理により除去して、露出された前記下地膜の上に絶縁性の遮光材を前記レジスト膜をマスクとして電着して前記遮光膜を形成し、この後、前記下地膜の上に残された前記レジスト膜のうち、赤,緑,青のうちの一つの色のカラーフィルタの形成領域のレジスト膜を露光および現像処理により除去して、露出された前記下地膜の上に前記一つの色のフィルタ材料を前記遮光膜をマスクとして電着する工程を繰返して、赤,緑,青のカラーフィルタを順次形成することを特徴とするカラーフィルタと遮光膜の形成方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
