特許

J-GLOBAL ID：200903051149678882

表示装置の製造方法

発明者： 河内 玄士朗
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-107172
公開番号（公開出願番号）：特開2002-303989
出願日： 2001年04月05日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】 超大型の基板上に高機能を有する表示装置を形成する際に、加工精度の大きく異なる複数のパターンを生産性を低下させることなく形成する。【解決手段】 基板の表面にレジスト膜を用いたフォトリソグラフィ技術によって所定パターンの材料層の積層体を形成する表示装置の製造方法において、前記レジスト膜の潜像を光を用いた一括露光方法とエネルギービームを用いた直接描画露光方法の両方を組み合わせて行うことを特徴とする表示装置の製造方法。

請求項（抜粋）：

基板の表面にレジスト膜を用いたフォトリソグラフィ技術によって所定パターンの材料層の積層体を形成する表示装置の製造方法において、前記レジスト膜の潜像を光を用いた一括露光方法とエネルギービームを用いた直接描画露光方法の両方を組み合わせて行うことを特徴とする表示装置の製造方法。

IPC (6件)：

G03F 7/20 501 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 348 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 348 B ,  H01L 29/78 612 D

Fターム (25件)：

2H092JA24 ,  2H092MA15 ,  2H092MA16 ,  2H092MA30 ,  2H097AA13 ,  2H097CA16 ,  2H097GB02 ,  2H097GB04 ,  2H097LA12 ,  2H097LA13 ,  5F110AA16 ,  5F110AA28 ,  5F110BB02 ,  5F110DD02 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ01 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435EE37 ,  5G435KK05