特許
J-GLOBAL ID：200903051156203210
マスク基板保持機構
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-191846
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029814
出願日： 1993年07月07日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 ?@小変形保持、?A短い熱時定数、?Bリジッド固定の3条件を同時に満足することが可能で、描画精度およびスループットの向上を図る。【構成】 高さの等しい3つの静電チャック4によってマスク基板2を吸着保持する。静電チャック4は、マスク基板2の自重による変形量が最小となる位置に配置されている。具体的にはマスク基板2の中心0を中心とする同一円周上に等分に配置されている。
請求項（抜粋）：
マスク基板裏面を同一高さからなる3つの静電チャックによって吸着保持したことを特徴とするマスク基板保持機構。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20 503
, H01L 21/68
H01L 21/30 541 L
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 531 A
